當(dāng)今社會是一個充滿信息的社會，信息的快速、準確、高質(zhì)量的傳輸離不開光學(xué)技術(shù)的應(yīng)用。在許多以光為載體傳播信息的過程中，光學(xué)元件的廣泛應(yīng)用是不可或缺的。同時，光學(xué)系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于各種國防武器中?？梢哉f，光學(xué)元件的相關(guān)技術(shù)也相當(dāng)完善，可以在各種復(fù)雜環(huán)境中發(fā)揮重要作用。但同時，光學(xué)元件在復(fù)雜環(huán)境下工作時也容易受到污染。此外，光學(xué)元件在制造和儲存過程中容易受到污染，如水霧.油霧對光學(xué)元件的作用有很大的影響。如何有效地清潔光學(xué)元件，使光學(xué)系統(tǒng)正常發(fā)揮其關(guān)鍵作用是一個值得研究的問題。以下是光學(xué)元件的超聲波清洗技術(shù)。

光學(xué)元件污垢的來源及分類

分析污垢來源
（1）在冷加工過程中，經(jīng)下盤清洗后，仍有磨料.冷凍液.輔材.有機溶液等殘漬；
（2）在工藝過程中，操作人員觸摸可能引起的手指印.唾沫印.汗?jié)n印;
（3）元件在儲存和使用中，空氣中浮塵.二氧化碳.元件表面的水蒸氣等?！敖g”。上述污垢在光學(xué)元件表面往往不是獨立存在的，而是相互滲透，受外部環(huán)境(濕度)影響.溫度等。)的影響，也會因微生物的作用而氧化分解或腐爛，產(chǎn)生更復(fù)雜的化合物附著在元件表面，甚至侵蝕元件表面，形成難以去除“色斑”。光學(xué)元件表面的污垢主要分為有機污垢.固態(tài)污垢.水融性污垢等。

光學(xué)元件超聲波清洗的特殊要求
（1）清洗劑應(yīng)具有較好的去污能力，能達到光學(xué)元件表面高潔凈度的技術(shù)標準；
（2）應(yīng)避免對光學(xué)設(shè)備和元件表面的侵蝕，或?qū)υ砻嬖斐尚碌奈廴荆?br>（3）清洗劑的原始特性(清洗能力).化學(xué)穩(wěn)定性.濁點.溫度等。)應(yīng)長期保持相對穩(wěn)定性，實效性應(yīng)保持在元素變化范圍內(nèi)；
（4）光學(xué)元件敏感，應(yīng)用清洗劑清洗時的沖擊力必須保持在光學(xué)元件的承載范圍內(nèi)。

超音波清洗

1.超聲波清洗的原理和工藝
超聲波清洗通常采用超聲波空化效應(yīng)和高頻壓力波的聲壓梯度.清潔顆粒速率和聲流的清潔效果。高頻高壓振蕩信號通過超聲波發(fā)振箱傳輸，通過換能器轉(zhuǎn)換為機械振動傳輸?shù)角鍧嵅牧?，連續(xù)輻射直線傳播超聲波束，超聲波束在材料中產(chǎn)生成千上萬的負壓氣泡，這些氣泡在清潔部件表面產(chǎn)生一系列密集爆炸，不斷撞擊清潔部件表面，包括通過清潔部件的另一側(cè)，以及所有部件的內(nèi)壁.埋孔.間隙，將附著在表面的污垢脫落，從而達到清潔的目的。超聲波清洗工藝主要包括聚焦清洗.多頻掃頻、跳頻清洗和超聲振動清洗。

2.影響超聲波清洗效果的因素及應(yīng)注意的問題
（1）影響因素超聲波清洗不僅與污垢的性質(zhì)有關(guān).類型.形狀及其附著力水平與清洗介質(zhì)的理化性質(zhì)有關(guān).清洗特性.元件的材料和表面也與清洗條件有關(guān)，如溫度.附加超聲振動壓力及附加超聲振動.機械外力等因素也有很大關(guān)系。同時也與清洗工藝有關(guān)。

（2）應(yīng)注意問題
①選擇超聲波頻率。如果洗滌元件更精確，則選擇高頻（40）kHz以上)可以避免超聲波對元件表面的損傷。如果洗滌元件表面臟，顆粒雜質(zhì)大，應(yīng)選擇較低的頻率(25~28kHz)，增加振動強度，使污物脫落。

②工藝選擇。實際工藝應(yīng)根據(jù)實際情況確定。對于簡單的清洗，只能使用單槽或兩槽，可以直接使用超聲波或蒸汽浴進行處理。對于復(fù)雜的清洗，應(yīng)使用四個以上的槽.屬于多種清洗方法的綜合清洗工藝。在某些獨特的情況下，應(yīng)增加拋動裝置和慢拉設(shè)備，以提高清洗效果。

超聲波清洗的優(yōu)點：（1）速度快，效果好；（2）不受清洗元件表面復(fù)雜形狀的限制。任何清洗液都可以浸泡在里面.可以產(chǎn)生空化效應(yīng)的地方可以達到清潔的目的；（3）可以減少污染，降低經(jīng)濟環(huán)境成本；（4）可以有效避免污垢再次粘附。

相信隨著超聲波清洗技術(shù)的進一步完善，各種廣泛使用的光學(xué)元件將得到更好的清洗和維護，使各種光學(xué)元件和光學(xué)系統(tǒng)能夠充分發(fā)揮作用。